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摘要
本文提出了ＩＣＰ－ＭＳ内标补偿校正法直接测定５Ｎ～６Ｎ高纯氧化镁中１４种痕量稀土杂质的方法，研究了ＩＣＰ－ＭＳ测定的谱干扰和基体效应。考察了Ｒｈ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｓ作为内标元素的补偿校正作用，选用Ｉｎ内标有效地消除氧化铬（ｇ／Ｌ）的基体效应。标准加入回收为９２～１０６％，ＲＳＤ（ｎ＝１１）＜１０％。方法简单，灵敏、快速，并用于高纯氧化铥提取工艺流程分析的５Ｎ～６Ｎ的产品检验。
- 出版日期1996
- 单位北京有色金属研究总院
本文提出了ＩＣＰ－ＭＳ内标补偿校正法直接测定５Ｎ～６Ｎ高纯氧化镁中１４种痕量稀土杂质的方法，研究了ＩＣＰ－ＭＳ测定的谱干扰和基体效应。考察了Ｒｈ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｓ作为内标元素的补偿校正作用，选用Ｉｎ内标有效地消除氧化铬（ｇ／Ｌ）的基体效应。标准加入回收为９２～１０６％，ＲＳＤ（ｎ＝１１）＜１０％。方法简单，灵敏、快速，并用于高纯氧化铥提取工艺流程分析的５Ｎ～６Ｎ的产品检验。
