目的制备卡托普利-地高辛双层片。方法采用湿法制粒及空白颗粒法分别制备卡托普利缓释层和地高辛速释层;以溶出和释放性能为指标,采用单因素及正交设计筛选缓速释层最优处方。结果速释层地高辛60 min内溶出约90%,缓释层在24 h内卡托普利基本释放完全,可达90%。结论该研究制备的卡托普利-地高辛双层片工艺简单,释放符合要求。
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