分子动力学模拟不同入射能量的CH与碳氢薄膜的相互作用

作者：秦尤敏; 吕晓丹; 赵成利; 宁建平; 贺平逆; A Bogaerts; 苟富均

来源：真空科学与技术学报, 2011, (02): 138-143.

• 分子动力学
• 碳氢薄膜
• 再沉积
• 吸附率 Molecular dynamics
• Hydrocarbon films
• Redeposition
• Deposited rate

本文使用分子动力学方法模拟低能CH与碳氢薄膜的相互作用,以探讨在核聚变过程中CH的再沉积行为及对面向等离子体材料性质变化的影响。选择的入射能量分别为0.3,1,5,10 eV。模拟结果表明随着入射能量的增加C原子与H原子的吸附率增加,且在入射能量大于CH离解能的情况下,同一能量下H原子的吸附率小于C原子的吸附率。随着入射能量的增加,薄膜的厚度增加,薄膜中含有Csp2的范围变宽,并且表面逐渐转变为Csp2表面。薄膜中的C主要以Csp3形式存在,其次是Csp2,几乎不含Csp1。通过统计薄膜中的CHx(x为1~4)发现CH占优势,其次是CH2,而CH4的量非常少。

• 出版日期2011
• 单位安特卫普大学; 贵州大学