科学技术的不断发展,高速电路系统的应用也在随之增多,大数据传输的需求量不断增加,对光传输系统也提出了更高的要求.传统的光学系统其传输性能已经不能完全适应新技术发展的要求,需要借助新的技术条件来提高电路系统的传输功能,这也是技术发展的方向.本文提出了包括微米、亚微米以至纳米在内的逐渐变化的微纳集成结构及其光导波,通过相关的理论研究和计算,收集到基于Si基微纳半导体材料的参数设置,对其制作工艺进行简化设计,为电光集成工艺的进一步发展提供了参考.
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