研究了真空直流磁控溅射下分别充 N2 、Ar气体对铬版成膜性能的影响 ,对两种膜层光密度、厚度、表面微结构形貌以及成分进行测试分析 ,膜层成分分析表明这两种气体仅充当了工作气体 ;综合研究结果表明 :在相同条件时 ,经两种气体作用的膜层其光密度出现很大差异的主要原因是由于气体的不同质量引起膜层沉积速率的不同 ,本文研究结果对制取预定光密度和良好蚀刻线条边缘的铬版具有非常重要的实用价值
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
