(110)和(002)择优取向ZnO薄膜的制备及光学性能研究

作者：苏德志; 赵全亮; 李中翔

来源：北方工业大学学报, 2014, (01): 44-48+94.

• 氧化锌薄膜
• 择优取向
• 射频溅射
• 光学性能 ZnO thin films
• preferred orientation
• radio-frequency sputtering
• optical property

运用射频溅射法在Si和LaNiO3/Si衬底上分别制备了高度(002)和(110)取向的ZnO薄膜.通过X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征,发现ZnO/LaNiO3/Si薄膜的(110)取向度高达96%,ZnO/Si薄膜为(002)择优取向,两种薄膜表面均致密平整,晶粒尺寸小于80nm.光致发光结果表明,ZnO/LaNiO3/Si薄膜的光致发光峰主要为带边发射的紫外光,而ZnO/Si薄膜的光致发光峰主要为过量氧导致的缺陷引起的缺陷发光峰.因此,采用LaNiO3薄膜作为ZnO在Si衬底上生长的过渡层,能够有效抑制缺陷发光,改善ZnO薄膜的发光性能.

• 出版日期2014
• 单位北方工业大学