能量密度和重复频率对PLD法制备ZnS薄膜性质的影响

作者：李学留; 刘丹丹; 李琳; 马明杰; 文亚南; 梁齐

来源：电子元件与材料, 2016, (08): 27-32.

DOI：10.14106/j.cnki.1001-2028.2016.08.007

• ZnS薄膜
• 脉冲激光沉积
• 能量密度
• 重复频率
• 择优取向
• 透过率 ZnS thin films
• pulsed laser deposition
• laser fluence
• pulse repetition rate
• preferred orientation
• transmittance

利用脉冲激光沉积法在玻璃基片上、以不同的能量密度和重复频率制备了一系列ZnS薄膜。利用X射线衍射、X射线能量色散谱、紫外-可见-近红外分光光度计,对ZnS薄膜的晶体结构、化学组分、光学特性等进行表征。结果表明:所制备ZnS薄膜为富硫贫锌,结晶质量良好,为(002)晶面择优取向生长。能量密度为7.5 J/cm~2、重复频率为2 Hz是生长高质量ZnS薄膜的条件,其所制备的ZnS薄膜为纤锌矿结构,结晶程度最高,择优取向度最高(189.2),Zn/S摩尔比值接近化学计量比,堆积密度最大(0.967),可见光透过率高,禁带宽度为3.55 eV。

• 出版日期2016
• 单位合肥工业大学