氮氩比对AlN_x薄膜微观结构与光学性质的影响

作者：杜淼; 郝雷; 刘晓鹏; 吕芳; 米菁; 李志念; 蒋利军; 王树茂

来源：太阳能学报, 2011, (11): 1710-1713.

• AlNx薄膜
• 磁控溅射
• 透过率 AlNx films
• magnetron sputtering
• transmittance

利用射频反应磁控溅射技术制备了氮化铝(AlNx)薄膜。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计分析氮氩比对AlNx相结构、表面形貌、沉积速率以及薄膜光谱透过率的影响规律。氮氩比显著影响溅射薄膜的成分和相组成,进而影响薄膜的透过率。当氮氩比小于4/156时,薄膜由金属铝组成;当氮氩比大于6/154时,薄膜由立方-AlN相组成。薄膜形貌随氮氩比例增大由粗糙不规则状的颗粒转化为均匀致密的细小颗粒,AlNx薄膜的沉积速率随之减小。光学性能测试结果表明,AlNx薄膜透过率由金属铝膜的零增加为83%,AlNx薄膜在300～2500nm波长范围内透过率较高,而在大于2500nm的近红外...

• 出版日期2011
• 单位北京有色金属研究总院