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摘要
本发明涉及一种MOCVD反应腔石墨盘均匀加热工艺参数的优化方法,将计算机和传热学知识结合起来,对MOCVD反应腔中加热情况进行模拟,利用神经网络构建数学模型,再利用遗传算法进行寻优,找出石墨盘表面温度最均匀时的加热电流,从而有利于薄膜均匀沉积,提高薄膜生长质量。
- 出版日期2016-9-26
- 单位佛山市中山大学研究院
本发明涉及一种MOCVD反应腔石墨盘均匀加热工艺参数的优化方法,将计算机和传热学知识结合起来,对MOCVD反应腔中加热情况进行模拟,利用神经网络构建数学模型,再利用遗传算法进行寻优,找出石墨盘表面温度最均匀时的加热电流,从而有利于薄膜均匀沉积,提高薄膜生长质量。
