多种结构硅通孔热应力仿真分析

作者:薛彤; 张国华; 杨轶博
来源:微电子学, 2015, 45(06): 820-824.
DOI:10.13911/j.cnki.1004-3365.2015.06.031

摘要

硅通孔(TSV)技术是实现三维封装的一种关键技术。通过有限元分析方法,研究了三种结构硅通孔的热应力,提出聚对二甲苯填充结构在热应力方面的优越性。为了进一步研究聚对二甲苯填充结构的TSV热应力,选用不同聚对二甲苯直径、高度、硅通孔的尺寸和深宽比进行仿真,得出一系列优化结论:随着聚对二甲苯直径的增大,等效应力先增大后减小;增大聚对二甲苯的高度、减小硅通孔的直径和深宽比,有利于优化热应力;深宽比大于4时,三种结构的热应力均趋于平稳。

  • 出版日期2015
  • 单位江南大学; 中国电子科技集团公司第五十八研究所

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