本文以SLC单层电容应用背景为前提,以介质陶瓷研究为衬底,采用半导体制造工艺技术探索陶瓷基SLC的制备工艺。首先利用专业软件L-EDIT进行设计掩模版图形,完成SLC单层电容所需掩模版加工制作;然后充分探索SLC制备环节中光刻工艺关键技术与参数,摸索出光刻环节线宽精度到1μm的工艺过程最后探索磁控溅射技术各项参数,调整工艺,制备出与掩模版图形设计相符合的SLC单层电容阵列。
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