不同择优取向的ZnO薄膜的制备

作者：陆液; 李勇强; 朱兴文

来源：压电与声光, 2007, (02): 204-206.

• 氧化锌薄膜
• (100)定向
• (101)定向
• 磁控溅射

采用射频磁控溅射法在载玻片上制备了不同择优取向的ZnO薄膜。结果表明,溅射功率在100~380 W范围内制备的ZnO薄膜呈(101)择优取向性,当功率上升至550 W时,薄膜则为(100)取向;基片温度升高有利于(002)面的生长,当基片温度为250℃时,在溅射功率为200 W时即可制得(002)面择优取向的薄膜。热处理温度的提高有助于(100)和(101)面的择优取向,而对(002)面的取向不利。同时,该文对ZnO薄膜不同择优取向生长的机制进行了探讨。

• 出版日期2007-4-15
• 单位上海大学