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Dynamic secondary ion mass spectroscopy of Au nanoparticles on Si wafer using Bi-3(+) as primary ion coupled with surface etching by Ar cluster ion beam: The effect of etching conditions on surface structure

作者：Park Eun Ji; Choi Chang Min; Kim Il Hee; Kim Jung Hwan; Lee Gaehang; Jin Jong Sung; Gantefor Gerd; Kim Young Dok; Choi Myoung Choul
来源：Journal of Applied Physics, 2018, 123(1): 015303.
DOI：10.1063/1.5011686
  • 出版日期2018-1-7

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更新时间：2022-08-25 17:19