多循环快速热退火诱导普通玻璃衬底非晶硅薄膜晶化

作者：於凡枫; 金晶; 史伟民; 瞿晓雷; 许月阳

来源：上海大学学报(自然科学版), 2012, (03): 327-330.

• 多循环快速热退火
• 非晶硅
• 晶化 multi-cycle rapid thermal annealing
• amorphous silicon
• crystallization

介绍一种使用快速热退火设备,经多次循环退火诱导,在普通玻璃衬底上生长非晶硅薄膜晶化的实验方法.利用拉曼(Raman)光谱、原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)、紫外可见分光光度计(UV-VISspectrophotometer)和霍尔(Hall)测试系统对薄膜的结构、形貌及电子迁移率进行测试.结果表明,当退火温度达到680℃时,薄膜开始出现晶化现象;随着快速热退火次数的增加,拉曼光谱在500 cm~(-1)处测得多晶硅特征峰;在循环退火5次后,其最佳晶化率达到71.9%,光学带隙下降,晶粒增大,载流子迁移率提高.

• 出版日期2012
• 单位上海大学