采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在以往的实验条件上,改用CH4替代C2H5OH作为碳源,合成出单晶金刚石。使用宝石显微镜和环境扫描电子显微镜观察分析了MPCVD单晶金刚石膜的生长表面形貌。初步实验表明,在压力为12kPa,H2流量为300sccm,CH4流量为6sccm的生长环境中,可以合成出质量较好的MPCVD单晶金刚石。
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