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摘要
用射频磁控溅射法在石英衬底上制备了ZnO∶Eu3 薄膜,通过X射线衍射仪﹑扫描电子显微镜和荧光光谱仪测试了薄膜结构﹑形貌以及发光性能,重点考察了溅射功率和退火工艺对其组织结构和发光性能的影响。结果表明:样品均呈现ZnO的六角纤锌矿结构,增大溅射功率有利于形成ZnO的c轴择优取向;增大溅射功率以及高温退火会使晶粒尺寸增大;观察到稀土元素内部4f壳层的电子跃迁以及从ZnO基质到Eu3 离子之间的能量传递现象,增大溅射功率以及780℃退火能提高ZnO∶Eu3 薄膜的发光特性。
- 出版日期2011
- 单位广东工业大学
