对近年来国内外铜离子印迹聚合物的合成和应用进展进行了综述,介绍了其制备原理、制备方法及其在膜分离、固相萃取等领域中的应用。在此基础上,对铜离子印迹技术目前存在的问题和未来的发展方向进行了分析和展望。作为分子印迹技术的一个重要发展方向,金属离子印迹技术的发展具有重要的学术和应用价值。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
