MPCVD中双基片台结构对单晶金刚石生长的影响

作者:夏禹豪; 李艳春; 耿传文; 李方辉; 马志斌*
来源:金刚石与磨料磨具工程, 2018, 38(03): 1-5.
DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2018.3.0001

摘要

在波导耦合的微波等离子体化学气相沉积制备金刚石的装置中引入双基片台结构,用光谱仪测量等离子体的发射光谱,用Raman光谱仪和SEM分析生长的单晶金刚石的Raman位移和表面形貌,对比研究双基片台结构对等离子体发射光谱和单晶金刚石生长的影响。研究表明:双基片台结构可以提高等离子体的功率密度。在相同的沉积参数下,双基片台结构有利于提高等离子体发射光谱的强度,从而显著提高单晶金刚石的生长速率,最快可达到24μm/h。生长的单晶金刚石具有金刚石Raman特征峰的偏移度更小,Raman特征峰的半高宽更窄,非金刚石相含量更少的特点。

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