脉冲N离子束轰击对TiAlN膜层显微硬度影响的研究

作者：吕树国; 张罡; 李玉海; 金光

来源：沈阳理工大学学报, 2012, 31(01): 5-8.

• 电弧离子镀
• TiAlN膜层
• 离子束
• 显微硬度 arc ion plating
• TiAlN coatings
• ion beam
• micro hardness

采用俄罗斯UVN 0.5D2I脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备,在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiAlN膜层。研究了膜层沉积之前N离子束轰击基材以及膜层沉积过程中N离子束辅助轰击对TiAlN膜层显微硬度的影响。结果表明:膜层沉积之前,N离子轰击得到高度洁净的表面,使基材的显微硬度由原来的900HV0.01提高到1230HV0.01。膜层沉积过程中,脉冲N离子束轰击,消除了膜层中的硬度"软点"及阴影效应,增加(Ti,Al)N相的含量,膜层的内部产生了压应力,这些因素显著提高了膜层的硬度,膜层的最高硬度为2530HV0.01。但轰击能量不能过高,否则会降低膜层的显微硬度。

• 出版日期2012
• 单位沈阳理工大学; 材料科学与工程学院