等离子体基离子注入制备TiN膜的成分结构

作者：李金龙; 孙明仁; 马欣新; 唐光泽; 金银玉

来源：材料科学与工艺, 2007, (01): 40-43.

• 等离子体基离子注入
• TiN膜
• XPS
• 成分深度分布
• 元素化学价态
• 纳米硬度

采用Ti、N等离子体基离子注入和先在基体表面沉积纯钛层然后离子注氮混合两种方法在铝合金基体上制备了TiN膜.利用XPS分析了两种方法制备TiN薄膜的成分深度分布和元素化学价态,并用力学性能显微探针测试对比了TiN膜的纳米硬度.研究表明:两种方法制备的薄膜均由TiN组成,Ti、N等离子体基离子注入薄膜中Ti/N≈1.1,而离子注入混合薄膜中Ti/N≈1.3,Ti、N等离子体基离子注入薄膜表面区域为TiN和TiO2的混合组织,TiN含量多于TiO2,离子注入混合薄膜表面主要是TiO2;Ti、N等离子体基离子注入所制备的薄膜的纳米硬度峰值为12.26 GPa,高于离子注入混合的7.98 GPa.

• 出版日期2007-2-28
• 单位哈尔滨工业大学