拓展与回归——中央美术学院版画系与意大利2RC版画工坊合作项目综述

作者：李帆

来源：美术研究, 2010, (04): 85.

DOI：10.13318/j.cnki.msyj.2010.04.013

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<正>中央美术学院、意大利著名版画工坊2RC的项目合作,目的是借助意大利2RC版画工坊体制提高学院版画技师的技能,完善提升版画技师的素质,重新认知版画技师在版画发展中的重要性。同时,更加

• 出版日期2010
• 单位中央美术学院