全球面变焦距光刻系统设计

作者：吕博; 刘伟奇; 康玉思; 冯睿; 柳华; 魏忠伦

来源：光学学报, 2013, (06): 262-267.

• 光学设计
• 变焦距光学系统
• 光刻物镜
• 球面设计 optical design
• zoom optical system
• lithographic lens
• spherical-surface design

设计了一种采用全球面透镜并具有变焦距功能的光刻系统。系统具有4个机械变焦的位置,两片负透镜作为变倍组,两片正透镜作为移动补偿组,补偿在变焦过程中由于系统共轭距离变化造成的像面移动。该系统光学总长为653.67mm,系统采用的22片透镜元件,全部采用球面设计,同时系统中没有使用特种光学玻璃。该系统工作在光刻常用波长405nm下,其500lp/mm调制函数值在4个变焦位置和所有视场内均大于0.40,绝对畸变小于六分之一特征尺寸。设计结果表明该系统成像效果良好,制作成本低,适用于工作在刻蚀微米量级分辨率、变焦距双远心光刻系统中。

• 出版日期2013
• 单位中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 中国科学院大学