高管团队背景特征、高管激励与企业R&D投入——来自A股上市高新技术企业的数据分析

作者：何霞; 苏晓华

来源：科技管理研究, 2012, (06): 100-108.

• 高管团队
• 高层梯队理论
• TMT背景特征
• 高管激励
• 企业R&D投入 top management team
• upper echelons theory
• top management team's background characteristics
• incentive mechanism
• high-tech enterprises'R&D investment

以沪深两市105家高新技术上市企业为研究样本,选取衡量高管团队背景特征的六项指标、高管激励的三项指标及企业R&D投入的两项指标,构建高管团队背景特征、高管激励与企业R&D投入的调节效应模型。研究结果表明:(1)高管团队教育程度和专业背景与企业R&D的人力资源投入水平显著正相关;职能背景与企业R&D经费投入水平显著正相关;而高管团队年龄与企业R&D的经费投入水平显著负相关。(2)高管薪酬激励和股权激励正向促进了企业的R&D投入水平。(3)高管股权激励在高管团队年龄和企业R&D经费投入的之间关系上起到了重要的调节作用;高管晋升激励在高管团队性别和企业R&D人力资源投入之间的关系上发挥着重要的调节作...

• 出版日期2012
• 单位广州番禺职业技术学院; 暨南大学