HgCdTe材料的溴-甲醇抛光工艺研究

作者：张立瑶; 乔辉; 李向阳

来源：半导体光电, 2012, (05): 683-685+702.

• HgCdTe
• 化学机械抛光
• 表面损伤
• XRD HgCdTe
• chemo-mechanical polishing
• surface demage
• XRD

碲镉汞(HgCdTe)红外探测器制备中的化学-机械抛光工艺会在碲镉汞材料表面形成一定深度的损伤层。用溴-甲醇化学机械抛光取代溴腐蚀工艺,有效地降低了抛光过程所产生的表面损伤。在溴-甲醇抛光工艺中,可变参数有溶液的浓度比、抛光时间、转盘转速等,不同的参数组合对于抛光效果有不同的影响,经过正交试验可以以较少的试验次数高效经济地得到最佳的溴-甲醇抛光工艺参数组合。以该优化参数进行抛光所得到的碲镉汞材料通过XRD测试以及Ar+刻蚀后表面形貌的测试表明,HgCdTe晶片表面剩余损伤大大减小。

• 出版日期2012
• 单位中国科学院上海技术物理研究所; 中国科学院大学