QF1基底上可见光区宽带增透膜研究

作者：朱华新; 刘桂林; 高劲松; 王彤彤; 李帅; 严慧敏; 郭颖; 李果华

来源：人工晶体学报, 2013, (06): 1104-1108.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2013.06.020

• 光学薄膜
• 电子束蒸发物理气相沉积
• 透过率 optical thin film
• electron beam physical vapor deposition
• transmittance

本文以QF1为基底设计了一种宽带可见光区增透膜,即:增透波长0.4～0.8μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明平均透过率达98.43%,通过SEM的膜层截面证实膜层比设计略偏厚,导致测试透过率与设计相比略有红移,但实际样品的光学特性与设计结果基本相符,具有宽带的增透特性。环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该增透膜可以应用于可靠性要求较高的环境中。

• 出版日期2013
• 单位中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 江南大学