第二十讲 真空离子镀膜

作者：张以忱

来源：真空, 2019, 56(02): 78-80.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2019.02.16

• 离子镀装置
• 真空离子镀膜
• 电子束加热
• 蒸发源
• 离化率
• 电子枪
• 真空工程
• 射频激励
• 真空泵
• 活性反应
• 沉积速率
• 金属蒸气
• 反应性气体
• 真空室

<正>(接2019年第1期第80页)典型的ARE装置见图12。这种装置的蒸发源通常采用e型枪。真空室结构分上下两室,上室为蒸镀室,下室为电子束源的热丝发射室,两室之间设有压差孔,电子枪发射的电子束经压差孔偏转聚焦在坩埚中心使膜材加热蒸发。采用这种枪即可加热蒸发高熔点金属,又为激活金属蒸气粒子提供了电子,为高熔点金属化合物膜的制

• 出版日期2019
• 单位东北大学