氮钝化SiC MOS界面特性的Gray-Brown法研究

作者：刘沙沙; 秦福文; 朱巧智; 刘冰冰; 汤斌; 王德君

来源：固体电子学研究与进展, 2013, (03): 211-214.

• 二氧化硅/碳化硅界面
• 金属氧化物半导体电容
• 氮钝化
• 界面态密度
• Gray-Brown法 SiO2/SiC interface
• MOS capacitor
• nitrogen passivation
• interface state density
• Gray-Brown method

降低SiO2/SiC界面态密度,尤其是SiC导带附近的界面态密度,是SiC MOS器件研究中的关键技术问题。采用氮等离子体钝化处理SiO2/SiC界面,制作成MOS电容后通过I-V和低温C-V测试进行氧化膜击穿特性及界面特性评价。氧化膜击穿电场为9.92MV/cm,SiO2与SiC之间的势垒高度为2.69eV。使用Gray-Brown法结合Hi-Lo法分析C-V曲线,获得了距导带底EC0.05～0.6eV范围内的界面态分布,其中距EC0.2eV处的界面态密度降低至1.33×1012cm-2eV-1。实验结果表明,氮等离子体处理能有效降低4H-SiC导带附近的界面态密度,改善界面特性。

• 出版日期2013-6-25
• 单位大连理工大学