登录
免费注册
首页
论文
论文详情
赞
收藏
引用
分享
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
A comparative study of charge trapping in HfO2/Al2O3 and ZrO2/Al2O3 based multilayered metal/high-k/oxide/Si structures
作者:Spassov D; Skeparovski A; Paskaleva A; Novkovski N
来源:
Thin Solid Films
, 2016, 614: 7-15.
DOI:10.1016/j.tsf.2016.02.064
出版日期
2016-9-1
全文
全文
访问全文
相似论文
引用论文
参考文献