脉冲N离子束轰击对TiAlN膜层和W18Cr4V高速钢结合力的影响

作者：吕树国; 刘常升; 张罡

来源：材料保护, 2012, 45(04): 18-20+73.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2012.04.014

• 电弧离子镀
• W18Cr4V高速钢
• N离子束轰击
• TiAlN膜层
• 结合力 arc-ion plating
• W18Cr4V high-speed steel
• nitrogen ion beam bombardment
• TiAlN coating
• adhesion

用电弧离子镀在刀具表面制备TiAlN膜层有利于提高其硬度和耐磨性能,但却降低了膜基结合力,影响其使用寿命。采用UVN 0.5D2I脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备,在W18Cr4V高速钢基材上沉积TiAlN膜层。研究了基材N离子束轰击及在膜层沉积过程中N离子束辅助轰击对TiAlN膜层结合力的影响。结果表明:膜层沉积之前,N离子轰击与基材原子发生了相互作用,造成了原子级洁净的表面,形成了大量的高密度形核点,且形成了含有N元素的改性层;在膜层沉积初期,脉冲N离子束轰击形成了由W,Cr,V,Fe,N,Ti,Al元素组成的具有一定厚度的"扩散层",其与"改性层"的共同作用是膜基结合力提高的主要原因,膜...

• 出版日期2012
• 单位沈阳理工大学; 东北大学