凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小,制作工艺难度大,其衍射效率与理论值有较大差距,一直制约其应用。针对上述问题与难点进行了分析,通过光刻胶光栅掩模制作和Ar+离子束刻蚀等工艺制作了凸面闪耀光栅。针对离子束大掠入射刻蚀凸球面时槽形闪耀角不易一致的难题,利用转动扫描刻蚀实现了球面上的闪耀光栅刻蚀,最终制作出了约4.3°闪耀角的凸面闪耀光栅,在400～800nm波段范围内,其+1级衍射光效率均值达40%以上。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
