本发明公开了一种在低活化钢表面制备非晶态钨涂层的方法,通过磁控溅射法在低活化钢表面制备非晶态钨涂层,获得的非晶态钨涂层表面光滑致密,无裂纹,涂层与基体的结合良好,涂层厚度在1～2微米,结合力在12～16N范围。本发明制备工艺稳定可靠,涂层表面光滑,组织均匀且致密,结合强度好。本发明采用磁控溅射法制备的钨涂层能有效的提升低活化钢材料在反应堆环境下的使用寿命。
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