摘要

介绍了离子清洗技术在提高 980nm半导体激光器可靠性方面的应用。外延片在空气中解理后 ,半导体激光器的腔面会吸附上碳和氧等杂质。腔面吸附的氧和碳严重影响了器件的可靠性。本文用GaAs衬底表面模拟半导体激光器的解理腔面 ,并对其进行氩离子清洗 ,俄歇电子能谱 (AES)分析显示氩离子清洗可以有效地清除GaAs表面的氧和碳等杂质