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摘要
采用射频磁控溅射法制备了CaWO4∶Yb3+薄膜并考察了沉积气压和时间对其结构、形貌和发光性能的影响。在不同的气压下,薄膜的XRD结果与四方相白钨矿结构相吻合,并且沿(004)方向择优生长。SEM图像显示,薄膜表面由椭圆形颗粒和孔洞组成。在260 nm激发下,Yb3+在994 nm处发出强近红外光,并且其强度随着溅射气压的升高总体是不规律的,而随着溅射时间的增加先增强后减弱。由于优良的发光性能,CaWO4∶Yb3+薄膜可作为潜在增强硅太阳能电池性能的发光转化膜。
- 出版日期2014
- 单位冶金与化学工程学院; 江西理工大学
