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Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride from Bis(tertiary-butyl-amino)silane and N-2 Plasma Studied by in Situ Gas Phase and Surface Infrared Spectroscopy

作者：Bosch Roger H E C; Cornelissen Lidewij E; Knoops Harm C M; Kessels Wilhelmus M M
来源：Chemistry of Materials, 2016, 28(16): 5864-5871.
DOI：10.1021/acs.chemmater.6b02319
  • 出版日期2016-8-23

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更新时间：2024-04-04 19:50