APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺

作者：闫凯; 司阿利

来源：航空兵器, 2008, (02): 35-38.

• 离子镀膜
• 薄膜工艺
• 等离子源辅助沉积
• 工艺参数 ion film plating
• thin film technology
• plasma ion assisted deposition(PIAD)
• technological parameter

阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。

• 出版日期2008
• 单位中国空空导弹研究院