纳米氧化铈抛光液对钌的化学机械抛光

作者：王婕; 储向峰; 董永平; 张王兵; 孙文起

来源：金刚石与磨料磨具工程, 2013, (01): 60-64.

DOI：10.13394/j.cnki.jgszz.2013.01.005

• CeO2
• 钌
• 化学机械抛光
• 分散剂 CeO2
• ruthenium
• chemical mechanical polish
• dispersant

采用液相沉淀法制备了纳米CeO2磨料,利用X射线衍射(XRD)表征其物相组成。通过纳米粒度仪研究了分散剂种类、热处理温度对CeO2磨料制备的悬浮液的粒径分布和Zeta电势的影响。用由CeO2磨料制备的抛光液对钌进行化学机械抛光,采用原子力显微镜观察钌片表面的微观形貌。结果表明:制备的粉体是具有立方萤石型结构的纳米CeO2,其晶粒尺寸随热处理温度的升高而增大;CeO2磨料在以六偏磷酸钠(SHMP)作为分散剂的悬浮液中分散效果最好;在抛光压力为6.9 kPa,抛光台转速为50 r/min,抛光液流量为50 mL/min,抛光液pH值为10.0,抛光液主要组成(质量分数)为1%CeO2,1%(NH4...

• 出版日期2013
• 单位安徽工业大学