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大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(一)
作者:龚建华; 柳俊文; 张永胜
来源:
真空
, 2006, (02): 1-4.
溅射镀膜
玻璃基片 sputtering coating
glass substrate
摘要
近年来,各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速,令人关注。本文针对这一领域,就主要膜系开发、设备结构、工艺、存在的问题及最新发展做了简单的归纳和介绍。
出版日期
2006
单位
合肥工业大学
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