主要研究了利用恒电流电化学技术制备CaMoO4薄膜的工艺中,电流密度和衬底处理方式对薄膜制备的影响。研究发现,增大阳极氧化电流密度会加快薄膜的生长速度,但会加剧晶粒团簇生长的趋势、减弱薄膜与衬底的附着力和薄膜的均匀性;衬底的不同处理方式对薄膜晶粒的生长速度、沉积方式、均匀性等有较大的影响,在抛光衬底上薄膜的沉积速度比酸腐蚀和粗磨的衬底要快,且不易造成晶粒的团簇生长。结果表明,CaMoO4薄膜的电化学沉积,应在抛光衬底上进行;电流密度控制在0.5mA/cm2附近比较好。
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