本文用磁控溅射方法制备了不同Ａｒ气压强下的Ｗ／Ｓｉ多层薄膜，并用小角Ｘ－射线衍射方法分析了膜层的周期结构和界面粗糙度，发现随Ａｒ气压强的增加界面粗糙度明显增加。文中对这一现象用成膜动力学理论进行了讨论。
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