单晶硅表面均匀小尺寸金字塔制备及其特性研究

作者：周春兰; 王文静; 赵雷; 李海玲; 刁宏伟; 曹晓宁

来源：Acta Physica Sinica, 2010, (08): 5777-5783.

• 表面织构化
• 反射率
• 少子寿命
• 单晶硅太阳电池 texturing surface
• reflectance
• minority carrier lifetime
• single silicon crystalline

表面织构是一种通过有效的光俘获增加短路电流从而提高太阳电池效率的主要途径之一.在加入间隙式超声和NaClO添加剂的碱性四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液中对单晶硅表面进行织构化处理,研究超声与NaClO在织构过程中对金字塔成核和生长的影响,以及金字塔大小对高温工艺之后的单晶硅少子寿命的影响.研究表明,通过在织构溶液中加入间隙式超声控制气泡停留在硅片表面的时间和脱离硅片表面速度,增强了小尺寸金字塔的均匀分布.织构之后硅片在AM1.5G光谱下的加权平均反射率能够达到12.4%,在高温扩散和氧化之后少子寿命的大小与金字塔大小之间存在近似于指数衰减函数的关系.

• 出版日期2010
• 单位中国科学院电工研究所