摘要

以Fe3O4@SiO2为磁核,在其表面包裹壳聚糖,再通过分子印迹技术,制得Fe3O4@SiO2@CTS镍离子印迹聚合物。采用XRD、FTIR和SEM对镍离子印迹聚合物的结构和形貌进行表征。通过正交实验确定了镍离子印迹聚合物对Ni2+的最佳吸附条件为:Ni2+初始浓度为80 mg·L-1、印迹聚合物用量为25 mg、pH值为5.0、吸附时间为3 h,印迹聚合物对Ni2+的吸附量可达66.73 mg·g-1。Fe3O4@SiO2@CTS镍离子印迹聚合物对Ni2+的吸附符合拟二级动力学方程,吸附过程符合Freundlich等温吸附模型。

  • 出版日期2023
  • 单位生物工程学院; 莆田学院