基于近场静电纺丝的微/纳米结构直写技术

作者：郑高峰; 王凌云; 孙道恒

来源：纳米技术与精密工程, 2008, 6(01): 20-23.

DOI：10.3969/j.issn.1672-6030.2008.01.005

• 近场静电纺丝
• 微/纳米结构
• 直写技术

基于近场静电纺丝(NFES),研究了可用于柔性电子制造的微/纳米结构直写技术.构建了电极、收集板可协调运动的直写实验平台,分析了电纺丝参数对微/纳米结构直写过程的影响和直写参数间的匹配.通过缩短电纺丝距离实现对直写过程的控制,分别采用直径为25μm的实心探针针尖和内径为232μm的空心注射针尖作为电纺丝喷头,可有序地直写出直径为50500 nm的纳米纤维和线宽为18μm的微米结构.实验结果表明:微米结构线宽随收集板速度和PEO溶液浓度的变大而变大;直写工作电压随收集板运动速度的变大而减小,随电极至收集板距离的增加而变大.协调电极与收集板运动速度,平行直写微米结构间距可控制在100180μm之间.

• 出版日期2008
• 单位厦门大学