NdFeB永磁薄膜的研究进展

作者：郭在在; 刘国玺; 牟晓明; 燕东明; 傅宇东; 高鹏

来源：稀有金属, 2010, 34(S1): 107-112.

• NdFeB薄膜
• 制备
• 溅射功率
• 溅射气压
• 靶基距 NdFeB thin film
• preparation
• sputtering power
• sputtering gas
• target-substrate distance

综述了NdFeB薄膜的国内外研究进展;介绍并分析NdFeB永磁薄膜的制备方法及溅射功率,溅射气压及靶基距对NdFeB薄膜的影响;概括总结NdFeB永磁薄膜的应用领域;展望NdFeB永磁薄膜的发展趋势和前景。

• 出版日期2010
• 单位中国兵器科学研究院宁波分院; 哈尔滨工程大学; 哈尔滨工业大学; 材料科学与工程学院