摘要

本发明提供一种AMOLED显示器件的制作方法及其结构。该AMOLED显示器件的制作方法通过在制作栅极(3)之前沉积一层无机膜,并进行等离子轰击处理,形成栅极防反层(2),以及在制作源/漏极(71)与数据线(72)之前沉积一层无机膜,并进行等离子轰击处理,形成蚀刻阻挡与源/漏极防反层(6),能够使得AMOLED显示器件具有良好的防止外部环境光反射的作用,提高AMOLED显示器件的显示亮度,延长AMOLED显示器件的使用寿命,降低AMOLED显示器件的厚度和制作成本。该AMOLED显示器件结构,通过设置栅极金属防反层(2)与蚀刻阻挡与源/漏极防反层(6),具有良好的防止外部环境光反射的作用,具有较高的显示亮度与使用寿命,厚度较小、制作成本较低。

  • 出版日期2015
  • 单位深圳市华星光电技术有限公司