凹模内腔等离子体离子注入数值仿真——(Ⅱ)工作气压的影响

作者：汪志健; 王蓬; 巩春志; 杨士勤; 田修波; RickyFu

来源：真空科学与技术学报, 2010, (06): 608-613.

• 等离子体离子注入
• 粒子模拟
• 气压
• 均匀性
• 注入能量 Plasma ion implantation
• Particle simulation
• Pressure
• Uniformity
• Implantation energy

模具表面改性对提高模具使用寿命和生产率有着十分重要的意义。本文采用二维Particle-in-cell/Monte Carlo colli-sion模型对不同气压下等离子体离子注入处理凹模型腔内表面的鞘层动力学进行研究。考察了气压变化对电势分布、离子运动状态及凹模型腔内表面离子注入剂量、能量和角度分布的影响。计算结果表明随着气压的上升,凹模周围的鞘层厚度变薄;随气压上升,凹模型腔底部和顶部端面离子注入剂量和平均注入能量下降,在型腔侧壁上,离子注入剂量和平均注入能量先上升后下降。注入到型腔侧壁和凹模顶部端面上的离子平均注入角度随气压上升而趋向于垂直入射,型腔底部平均注入角度随气压上升略有增大。研...

• 出版日期2010
• 单位哈尔滨工业大学