用电沉积法在n-Si单晶表面上制得微细的不连续Pt岛,测得最佳的电沉积条件与最适当的氧化还原偶。在63mW/cm~2白光照射下,I_(sc)为21mA/cm~2,V_(oc)为0.57伏,转换效率达12.1%。 用SEM、XPS及AES测量n-Si/Pt电极表面。对实验结果进行了详细讨论。