电弧离子镀沉积TiN/AlN-TiAlN复合膜的耐磨性

作者：李争显; 王少鹏; 潘晓龙; 杜继红; 王宝云; 严鹏

来源：装备制造技术, 2010, (02): 1-2+10.

• 电弧离子镀
• 复合膜
• 耐磨性 arc ion plating(AIP)
• composite film
• wear resistance

采用高纯铝、钛靶材,通过电弧离子镀工艺在TC4基材上沉积制备了TiN/AlN-TiAlN复合多层膜,用HV-1000型显微硬度计测试了膜层的硬度,用球盘磨损试验对比研究了膜层和基材的耐磨性。结果表明:膜层硬度为2856HV,耐磨性相比基材提高6倍以上。

• 出版日期2010
• 单位西北有色金属研究院