根据气液固(VLS)生长机制,利用化学气相沉积设备,以锡粉为源,Ar和O2混合气体为载气,当生长温度达到800℃在硅衬底表面生长出长度达数十微米的SnO2纳米线.光电催化性能测试表明在热力学开启势处,光电流达到0.3mA/cm2,且具有较好的稳定性.