氢化非晶硅(α-Si:H)的结构弛豫是导致α-Si:H性能光诱导衰变的重要原因之一。用0.5MeV、注量1.3 × 1020e/cm2的电子束辐照,α-Si转化为微晶硅,不稳定的弱Si-Si键因断裂而减少。 α-Si光电池的相应试验初步证实,合适的电子辐照可以缓解α-Si的结构弛豫现象。