摘要

物理气相沉积(PVD)TiN镀层已获广泛应用。为进一步改善TiN镀层的性能,近年来致力于复合处理的研究,其中等离子氮化(PN)+PVDTiN复合镀层的性能尤为优良,本文综述了其工艺、组织和性能之间的关系。